Micron Technology porte son plan d'investissement américain à plus de $250 Mds d'ici 2035, accélérant la construction de fabs à Clay (NY), Boise (Idaho) et Manassas (Virginie).
Catégorie : Investissement — Source : Reuters, 9 juillet 2026. Micron Technology a annoncé le 9 juillet 2026 la hausse de son plan d'investissement américain à plus de 250 milliards de dollars d'ici 2035, soit une augmentation d'environ 50 Mds$ par rapport au plan précédent. Le site de Clay (New York) doit devenir le plus grand site de fabrication de semi-conducteurs de l'histoire des États-Unis, avec une première fab attendue mi-2027. Les projets américains (New York, Idaho, Virginie) créeront plus de 90 000 emplois directs et indirects. L'investissement vise à produire 40% de la DRAM américaine et à renforcer la chaîne d'approvisionnement nationale en puces mémoire pour l'IA.